膜厚的量測方法大致上可分為原位量測、離位量測兩類
原位星測系指鍍膜進(jìn)行中量測，普遍使用在物理氣相沉積，如微天平、光學(xué)、電阻量測。
離位量測系指鍍膜完成后量測，對電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質(zhì)量、剖面計、掃描式電子顯微鏡。
膜厚的量測方法大致上可分為原位量測、離位量測兩類
原位星測系指鍍膜進(jìn)行中量測，普遍使用在物理氣相沉積，如微天平、光學(xué)、電阻量測。
離位量測系指鍍膜完成后量測，對電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質(zhì)量、剖面計、掃描式電子顯微鏡。
