通俗的定義為在正常狀況下，其應(yīng)用功能不會(huì)失效。

想要達(dá)到這個(gè)目的，一般而言這層薄膜必須具有堅(jiān)牢的附著力、很低的內(nèi)應(yīng)力、針孔密度很少、夠強(qiáng)的機(jī)械性能、

均勻的膜厚、以及足夠的抗化學(xué)侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成膜條件、

接口層的形成和基材的影響，隨后的熱處理亦扮演重要角色。

沉積的薄膜有內(nèi)應(yīng)力的存在，其來源為何? 

薄膜和基材之間的晶格失配 

薄膜和基材之間的熱膨脹系數(shù)差異 

晶界之間的互擠