真空蒸鍍 

1. 基本原理  真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流入射到固體（稱為襯底或基片）表面凝結形成固態(tài)薄膜的方法。 

2. 真空蒸鍍時尤其是對真空環(huán)境的要求更嚴格其原因有：

A. 防止在高溫下因空氣分子和蒸發(fā)源發(fā)生反應

B. 防止因蒸發(fā)物質的分子在鍍膜室內與空氣分子碰撞

C. 防止空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物 

3. 設備： 真空鍍膜室和真空抽氣系統(tǒng)兩大部分組成。真空鍍膜室內裝有蒸發(fā)源、被蒸鍍材料、基片支架及基片等。